南大光电ArF光刻胶产品再次通过客户认证


时间:2021-06-01  来源:  作者:  点击次数:


原标题:南大光电ArF光刻胶产品再次通过客户认证

【TechWeb】6月1日,江苏南大光电材料有限公司宣布,宁波南大光电材料有限公司自主研发的ArF光刻胶产品(以下简称“宁波南大光电”)于2020年12月通过了某存储芯片制造企业50nm闪存平台认证,近期在某逻辑芯片制造企业55nm技术节点产品上取得认证突破。

据悉,该认证体系选用客户55nm技术节点逻辑芯片产品的工艺进行验证,宁波南大光电研发的ArF光刻胶测试良品率符合要求,说明其具备55nm平台后台金属布线层的工艺要求。

ArF光刻胶材料是集成电路制造领域的重要关键材料,可用于90nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺。广泛用于高端芯片制造(如逻辑芯片、内存芯片、AI芯片、5G芯片、云计算芯片等。).ArF光刻胶的市场前景好于预期。随着国内集成电路产业的快速发展,自主创新和国产化的加速,以及先进工艺技术的应用,光刻胶的用量将会大大增加。


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